的发展上，一直受国外的制裁。目前最难攻克的就是光刻机的研制，目前光刻机做的最好的国家就是荷兰，一台EUV光刻机的售价高达十亿。

　　虽然我国芯片技术发展受到了国外的牵制，但也给中国半导体企业发展迎来了新的机会，华为作为芯片行业的领头羊，在芯片设计研发行业也有了很大进步。

　　已经制造完成并正在进行测试。 俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）表示，已组装并制造了第

　　的常见类型解析 /

　　high-NA(numerical aperture,数值孔径)设备，以确保其正常工作。Intel也加入了这

　　所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次从接触接近式

　　的发展历程及工艺流程 /

　　Twinscan NXE:3800E 完成安装 /

　　的厂商 /

　　是微电子制造的关键设备，广泛应用于集成电路、平面显示器、LED、MEMS等领域。在集成电路制造中，